本征向量
探见本征

纳米光学

核心为散射式近场光学技术（s-SNOM）。把光聚焦到纳米探针的尖端，针尖与样品之间的近场相互作用被散射回探测器。分辨率主要由针尖半径决定而非波长：中红外波段约 10–20 nm，太赫兹波段约 50–100 nm，均远小于衍射极限。它给出的是局域的介电响应：导电性、载流子、声子、成分与界面，测量无损、非侵入。

波段	可见 – 太赫兹
分辨率	中红外 10–20 nm，太赫兹 ~100 nm
温度	室温至低温
输出	纳米红外光谱、成分与载流子分布成像

低温光学

超导状态只在低温度下出现，而光学测量需要光路的自由进入。我们把纳米光学带入 4 K 以下的样品环境，打破低温与光学难以兼容的限制，直接在超导状态下观察超导材料与量子器件。系统兼容强磁场环境与探测。

• 样品温度 4 K 以下，可选磁场
• 快速降温，缩短单次检测周期
• 光学窗口与低温光路，近场探针在低温下工作
• 晶圆与芯片的自动扫描与定位
• 同步输运测量
• 真空与隔振

超导光电流检测

融合纳米光学和低温光学。超导和量子器件通以偏置电流、工作在超导转变边缘（温度或电流）时，用纳米光学技术对局部超导凝聚态施加微弱扰动（近场模式下可低至纳瓦量级）。这种扰动可以被器件自身的电压响应读出，实现高灵敏度探测。其独特之处在于，器件本身用作为光的响应探测器，读出信号的是超导本身信号而不是散射光，它对局域超导性、电流分布与耗散状态敏感，并且可以在工作温度与磁场下进行。

读出	器件自身电学响应
光功率	可低至纳瓦量级，近场模式
环境	工作温度，可加磁场
对象	超导薄膜、微桥、约瑟夫森结测试结构

AI 代理

从测试到工艺反馈，缩短分析时间、自动化、规模化

影响性能的缺陷数据量大、参数多，判读依赖经验。我们正在把测量与分析流程交给 AI 代理协调：自动测试，找到关键区域；AI分析测试数据评估性能；全程无人操作，实现效率和成本双赢^*

• 测量代理根据样品类型规划扫描路径与参数；先粗扫定位异常区域，再对局部提高分辨率与信噪比；实时监控漂移与信号质量，异常时自动暂停
• 分析代理对信号做物理约束的反演；识别缺陷类型并统计分布；把缺陷图与比特性能、输运数据关联，给出“观测到的”与“模型推断的”两类结论
• 报告代理生成结构化检测报告，保留全部原始数据与测量参数以便复核；按客户需要输出芯片级评级、缺陷统计与工艺建议

^*在人工复核的前提下，逐步放开代理的自主程度。